Systèmes de dépôt de couches minces (Equipements) Mots clé www.vacuum-guide.com
Dépôt de couches minces, Metallisation Sources Magnetron Cibles de pulvérisation cathodique film thickness monitoring power supply vacuum chamber vacuum furnace heat treatment America Asia Pacific Europe
CH FRANCE


ALLIANCE CONCEPT ALLIANCE CONCEPT - www.alliance-concept.com
- 4, Avenue du Pont de Tasset, 74960 Cran Gevrier, France

email, Tel. 		Produits: Dépôt sous vide
  • Evaporation sous vide, pulvérisation cathodique
  • magnétron DC/RF, dépôt en plasma CVD
  • gravure, procédés plasma


Application-Systeme - www.application-systeme.fr
- 1 allée de l'Orchidée, 31390 Carbonne, France

email, Tel.

Spécialisée dans la vente et l'entretien de machines de dépôt sous vide, neuves ou reconditionnées : PVD (évaporation et pulvérisation cathodique), CVD, PECVD, RIE, depuis plus de 30 ans, Application-Systeme bénéficie de la synergie des leaders présents dans le spatial, la recherche et l'aéronautique. 		Produits: vente et l'entretien de machines de dépôt sous vide

Notre structure est composée d'un bureau d'études, d'un atelier de fabrication et de bureau administratif.

Notre bureau d'études se décompose de la manière suivante :
Spécialité vide: Pompage, contrôle.
Spécialité dépôt: PVD (évaporation, pulvérisation), PECVD, RIE.
Spécialité mécanique: Conception CAO, étude, réalisation.
Spécialité automatisme: Programmation, interfaçage, réseau.
Spécialité industrialisation: Electromécanique, pneumatique, hydraulique.


ISYTECH ISYTECH
- 9 rue Bienvenüe, 22300 Lannion, France

email, Tel.

ISYTECH est la nouvelle désignation commerciale de la société M.E.S Bretagne après sa sortie du groupe SIDEL en Octobre 2003. 		Produits: Procédés plasma à basse pression

développement de procédés dans le domaine des applications plasma à basse pression
conception et commercialisation d'équipements plasma destinés à l'industrie et à la recherche.

Applications: préparation et finition de surface, greffage plasma, gravure, polymérisation assistée par plasma, dépôt de couches barrières ou fonctionnelles.


TECMACHINE HEF TECMACHINE Groupe HEF
- ZI Sud, rue Benoît Fourneyron, 42166 Andrezieux-Boutheon, France

email, Tel.

TECMACHINE, société en charge de la production d'équipements au sein de HEF® Groupe, développe et fabrique les installations de dépôts sous vide. 		Produits: Machines de dépôts sous vide Equipements couvrant aussi bien les besoins de laboratoire ou de développement que ceux d'unités de production de grande série ou à grand volume et dotés de systèmes de haute technologie - pompage, automatisation, contrôle des procédés et sécurité:
  • Technologie PEMS&trade: Modes PVD, PACVD et mixte PACVD / PVD en standard
  • Décapage efficace et homogène du substrat, OES (Optical Emission Spectroscopy) pour un contrôle du flux de gaz réactif
  • Contrôle indépendant du flux d'ions et de l'énergie des ions pour l'obtention des propriétés optimales des dépôts
  • Système multi-chambres, Changement rapide des cibles (matériau à déposer), Contrôle par ordinateur et facilité d'opérations


PLASSYS PLASSYS SA
- 14 rue de la gare, 91630 Marolles-en-Hurepoix, France

email, Tel.

PME créée en 1987 et installée en région parisienne par une équipe d'ingénieurs spécialisés dans les technologies du vide, des couches minces et des plasmas réactifs. La direction générale de la société est assurée par Patrick SMUTEK, spécialiste des plasmas réactifs et des techniques radiofréquences. Il est assisté par Thierry BESSOT qui est responsable de la division Câblage Industriel.
La société PLASSYS a pour activité principale la conception et la fabrication d'équipements pour le dépôt et la gravure des couches minces. Elle met ses compétences au service des centres de recherche publics et privés. Elle réalise, en outre, des systèmes de production dans le domaine des couches tribologiques. 		Produits: Machines de dépôts sous vide
  • Les lignes de produits correspondent aux techniques d'évaporation sous vide, de pulvérisation cathodique, de dépôt par plasma, de gravure par plasma, de décapage ou délaquage par plasma et d'usinage ionique.
  • Les domaines d'application des machines PLASSYS sont ceux rencontrés en technologie des semiconducteurs, des supraconducteurs, des capteurs, des couches tribologiques, des couches optiques.

 

 

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